美伊战争影响日本光刻胶供应系过度担忧

　　【财新网】近日，“日本光刻胶原料告急”“日本光刻胶三巨头预警光刻胶断供”等消息传得沸沸扬扬。据财新多方了解，光刻胶作为半导体生产制造需要用到的原材料，全年使用量约10万吨。由于半导体光刻胶用量少，对生产所需的石化原料用量低，并不会受美伊战争影响而断供。

　　“光刻胶必然是石化原料短缺影响最小的产品之一，可能在复杂多变的国际形势下会涨价，但不可能会断供。”半导体业内人士告诉财新。

　　光刻胶是一种光敏化学材料，可以将掩模版上的微细电路图形精准转移到晶圆表面，并为后续刻蚀、离子注入提供临时保护掩模，主要应用于芯片、面板、PCB三大领域的核心制造环节。在半导体制造领域，光刻胶被视为“感光底片”，由于其价值高，也被称为“半导体第一黄金液体”。