虑到技术难度、生产成本、良率等因素,产业界更多把该型号光刻机用在10纳米制程以下芯片的生产。 光刻机在芯片制造中扮演关键角色,以光源波长划分,由最早的UV(紫外线光刻机),发展到DUV(深紫外线光刻机
1.8纳米(Intel 18A)测试芯片已经流片。 在芯片领域,工艺节点纳米数越小,通常意味着性能更强、功耗更低。在14纳米节点之前,英特尔曾长期在工艺上领先台积电、三星等主要晶圆厂商。然而,在步入10纳
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步为营。 7月27日,泛林总裁兼CEO蒂姆·阿切尔(Tim Archer)在财报会上表示,公司已经收到通知,美国政府决定加强出口管制,限制对中国出口的半导体设备从原来的10纳米以下,扩大至14纳米以下
总裁兼CEO蒂姆·阿切尔(Tim Archer)在财报会上表示,公司已经收到通知,美国政府决定加强出口管制,限制对中国出口的半导体设备从原来的10纳米以下,扩大至14纳米以下。在芯片行业,纳米数越小
导体技术在不断进步,中国大陆也能跟着进步。 第二跳,是2018年美国政府阻挠荷兰阿斯麦公司向中国企业出口EUV光刻机,该做法挑战了不成文的“N-2”原则,那年台积电量产7纳米,其上是10纳米
CEO蒂姆•阿切尔(Tim Archer)在财报会上证实,近日已收到美国政府通知,要求对华技术出口管制范围从10纳米以下扩大至14纳米以下。 单边管制之外,据《韩联社》等韩国媒体报道,美国还试图拉拢韩国
入到商业管制清单,对相关出口进行管控。7月27日,美国芯片设备厂商泛林半导体总裁兼CEO蒂姆·阿切尔(Tim Archer)在财报会上证实,近日已收到美国政府通知,要求对华技术出口管制范围从10纳米以
知,要求对华技术出口管制范围从10纳米以下扩大至14纳米以下。 多名分析师向财新表示,美国上述出口管制政策与以往的“实体清单”不同,不是针对个别企业,而是全面针对中国。短期内影响中芯国际,它是目前中国
美国政府通知,要求对华技术出口管制范围从10纳米以下扩大至14纳米以下。 多名分析师向财新表示,美国上述出口管制政策与以往的“实体清单”不同,不是针对个别企业,而是全面针对中国。短期内影响中芯国际,它
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1.8纳米(Intel 18A)测试芯片已经流片。 在芯片领域,工艺节点纳米数越小,通常意味着性能更强、功耗更低。在14纳米节点之前,英特尔曾长期在工艺上领先台积电、三星等主要晶圆厂商。然而,在步入10纳
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步为营。 7月27日,泛林总裁兼CEO蒂姆·阿切尔(Tim Archer)在财报会上表示,公司已经收到通知,美国政府决定加强出口管制,限制对中国出口的半导体设备从原来的10纳米以下,扩大至14纳米以下
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总裁兼CEO蒂姆·阿切尔(Tim Archer)在财报会上表示,公司已经收到通知,美国政府决定加强出口管制,限制对中国出口的半导体设备从原来的10纳米以下,扩大至14纳米以下。在芯片行业,纳米数越小
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导体技术在不断进步,中国大陆也能跟着进步。 第二跳,是2018年美国政府阻挠荷兰阿斯麦公司向中国企业出口EUV光刻机,该做法挑战了不成文的“N-2”原则,那年台积电量产7纳米,其上是10纳米
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CEO蒂姆•阿切尔(Tim Archer)在财报会上证实,近日已收到美国政府通知,要求对华技术出口管制范围从10纳米以下扩大至14纳米以下。 单边管制之外,据《韩联社》等韩国媒体报道,美国还试图拉拢韩国
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入到商业管制清单,对相关出口进行管控。7月27日,美国芯片设备厂商泛林半导体总裁兼CEO蒂姆·阿切尔(Tim Archer)在财报会上证实,近日已收到美国政府通知,要求对华技术出口管制范围从10纳米以
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知,要求对华技术出口管制范围从10纳米以下扩大至14纳米以下。 多名分析师向财新表示,美国上述出口管制政策与以往的“实体清单”不同,不是针对个别企业,而是全面针对中国。短期内影响中芯国际,它是目前中国
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美国政府通知,要求对华技术出口管制范围从10纳米以下扩大至14纳米以下。 多名分析师向财新表示,美国上述出口管制政策与以往的“实体清单”不同,不是针对个别企业,而是全面针对中国。短期内影响中芯国际,它
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