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【周末特供】全球半导体开启军备竞赛中国突围危中有机: ，“+2”策略升级为“不卖EUV光刻机”策略，导致全球芯片制造巨头仍在按“摩尔定律”快速前行，而中国大陆芯片制造却被国际设备巨头按了“暂停键”，大陆芯片制造企业只能探索其他途径，努力避免差距扩大。两名国

华的芯片制造设备，特别是光刻机，在实践中也会落后世界最高水平2代以上。近年，“+2”策略升级为“不卖EUV光刻机”策略，导致全球芯片制造巨头仍在按“摩尔定律”快速前行，而中国大陆芯片制造却被国际设备巨

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道，美国官员正在游说荷兰当局在禁止光刻机制造商阿斯麦尔（ASML）向中国出售最先进的极紫外线光刻机（EUV）基础上，将禁售范围扩大到上一代技术深紫外线光刻机（DUV）的出口。由于无法获得荷兰政府的出口

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of access to ASML Holding NV’s extreme ultraviolet lithography (EUV) systems, which are required

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关键角色，ASML是全球少数几家能提供芯片光刻机的厂商之一。在主要用于7纳米及以下先进工艺的极紫外（EUV）光刻机领域，ASML是唯一的供应商。ASML预期，公司2022年将售出55台EUV光刻机，较

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ultraviolet, or EUV, lithography systems, which cost about 160 million euros ($164 million) per unit

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电松江、台积电南京都是典型代表；其二，输华芯片制造设备，特别是光刻机，在实践中也会落后世界最高水平2代以上。而在近年，“+2”策略让位于“不卖EUV光刻机”策略。冯锦锋指出，这导致全球芯片制造巨头仍

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: 函崤明月（财新网Android版）55天3小时16分20秒前

制造的中芯，华宏设计的海思，展锐封装的长电，华天中低端mcu。当然专业领域还没有出现 Ti这样的龙头，综合领域也没有三星这样的巨头。不过，相比20年前，已经进步很大了。

刻机，在实践中也会落后世界最高水平2代以上。而在近年，“+2”策略让位于“不卖EUV光刻机”策略。冯锦锋指出，这导致全球芯片制造巨头仍在按摩尔定律快速前行，而中国大陆芯片制造却被国际设备巨头按了“暂

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模将进一步扩大到570亿美元。 “近年来，国内半导体公司华为海思、中芯国际被美国制裁，先进工艺发展受限，比如5纳米工艺必须用到EUV（极紫外光刻机）。在没有EUV的情况下，Chiplet可能成为更重要

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: 倪险守时（广州）63天20小时11分29秒前

今天看了Cadence的文章说“多個小晶片和晶粒堆疊方法降低了整體一次性工程費用的成本，提高了設計功能和性能，也降低了功耗，透過有效使用Z方向堆疊克服了光罩尺寸(reticle size)限制，並提供了更靈活的IP使用模型，同時縮短創新產品的上市時間。”