芯片设计
- 台积电南京工厂豁免期已被延长 目前正申请无限期豁免
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大陆的工厂也是为芯片设计公司制造芯片。 2015年12月，台积电宣布将投资30亿美元，在南京建设一座12英寸晶圆厂。该产线于2017年建成，应用16纳米工艺，产能为2万片/月。2020年三季度，台积电
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2011-07-22
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大陆的工厂也是为芯片设计公司制造芯片。 2015年12月，台积电宣布将投资30亿美元，在南京建设一座12英寸晶圆厂。该产线于2017年建成，应用16纳米工艺，产能为2万片/月。2020年三季度，台积电
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2011-07-22
京公网安备 11010502034662号 
升工艺；一年侧重芯片设计、更新架构。该模式在确保英特尔产品迭代的同时，带给下游厂商明确、稳定的产品规划指引，一度是英特尔挤压竞争对手的利器。然而，2014年之后，钟摆模式渐渐失灵，在14纳米工艺向10
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automation(电子设计自动化)，主要用来设计超大规模集成电路，属于芯片设计中不可或缺的关键设计工具。EDA分为设计工具、仿真工具、验证工具三种类型，在芯片生产的全生命周期中均发挥着至关重要的作用。 在EDA
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，英特尔还调整了其产品业务部门与制造部门的合作方式，两者之间将转向类似芯片设计客户和晶圆代工厂商的关系。“现在，我们要创建为外部代工客户服务，同时服务英特尔产品部门的‘内部代工’模式。”基辛格称
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